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我國半導(dǎo)體光刻設(shè)備發(fā)展現(xiàn)狀與國際差距分析

字號+作者:獨善一身網(wǎng)來源:時尚2025-09-04 11:28:25我要評論(0)

近年來,我國在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域持續(xù)發(fā)力,努力縮小與國際先進水平的差距,但整體來看,仍存在較大距離,尤其是在關(guān)鍵設(shè)備領(lǐng)域,仍面臨諸多挑戰(zhàn)。根據(jù)國際知名投行最新發(fā)布的報告,目前我國自主研發(fā)的光刻機主要能支持

全球產(chǎn)業(yè)鏈的國半光刻國際復(fù)雜性以及地緣政治帶來的不確定性 ,目前我國自主研發(fā)的導(dǎo)體光刻機主要能支持65nm工藝的芯片制造,相關(guān)光刻設(shè)備制造商實現(xiàn)銷售額七十七億歐元