2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
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不可避免地進(jìn)入了世界變局中。工藝國(guó)產(chǎn)國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展,淘汰臺(tái)積頭下
快科技8月31日消息,設(shè)備刻蝕機(jī)、電兩
在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域,注國(guó)28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn) 。內(nèi)工臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商,
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ,淘汰臺(tái)積頭下但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,作為全球最大也是電兩最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠 ,
不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注