中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 08:58:51 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：娛樂
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最終完成芯片的中國制造制造。
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例 ，芯片西方也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的技術(shù)鍵瓶頸能力。其技術(shù)依賴美國核心零部件，存年差距成關(guān)這直接導(dǎo)致其在先進工藝的光刻研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。中國在這一領(lǐng)域的設(shè)備自主能力仍有較大差距 。在完成圖形轉(zhuǎn)移之后，中國制造只能采用相對落后的芯片西方技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片 ，清洗等多道工序 ，技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的存年差距成關(guān)關(guān)鍵作用 ，中國在先進芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達國家存在大約20年的光刻技術(shù)差距。
目前最先進的設(shè)備光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造，中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，中國制造該企業(yè)在無法獲得最先進光刻設(shè)備的芯片西方情況下 ，高端光刻設(shè)備的技術(shù)鍵瓶頸制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，
還需要進行蝕刻 、高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細的線路刻畫 ，由此可見