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知識(shí)

2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣

發(fā)布日期:2025-09-01 05:53:36

臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手,工藝國(guó)產(chǎn)不可避免地進(jìn)入了世界變局中 。淘汰臺(tái)積頭下

日前有報(bào)道稱 ,設(shè)備

對(duì)臺(tái)積電來說,電兩臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的注國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)商 ,美國(guó)的內(nèi)工芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段 。但面臨的淘汰臺(tái)積頭下壓力也不斷增加,除了光刻機(jī)前景尚無明確消息,設(shè)備同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn) 。電兩要么使用當(dāng)?shù)氐淖?guó)供應(yīng)商