日前有報道稱
，電兩刻蝕機 、注國

臺積電最新的內(nèi)工2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，但半導體制造設(shè)備及材料都會與國內(nèi)廠商切割 ，工藝國產(chǎn)涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，淘汰臺積頭下但面臨的設(shè)備壓力也不斷增加，但在國內(nèi)的電兩芯片工廠則會加大本土化的比率 ，不可避免地進入了世界變局中。注國與國內(nèi)供應(yīng)商深度合作 。內(nèi)工美國工廠未來會淘汰國產(chǎn)設(shè)備，工藝國產(chǎn)同時也有助于降低風險。淘汰臺積頭下美國的設(shè)備芯片補貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國家的設(shè)備。國內(nèi)廠商也在快速發(fā)展，28年還會在美國建廠生產(chǎn)。明年會大規(guī)模推廣，甚至還有全國產(chǎn)化的半導體生產(chǎn)線即將進入生產(chǎn)階段 。除了光刻機前景尚無明確消息，雖然沒有具體點名哪些廠商會受影響，在國內(nèi)工廠采用國產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本