中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 08:06:35 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：熱點
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沉積 、中國制造
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例，芯片西方
目前最先進的技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造，
由此可見 ，存年差距成關(guān)也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的光刻能力 。中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距。設(shè)備由于受到外部限制