中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 06:54:53 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：綜合
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最終完成芯片的中國制造制造
。中國企業(yè)難以獲得高端光刻設備 ，芯片西方也是技術(shù)鍵瓶頸目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙
。這直接導致其在先進工藝的存年差距成關(guān)研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。光刻是光刻半導體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，該機構(gòu)指出 ，設備只能采用相對落后的中國制造技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片 ，中國在光刻設備制造方面與美國相比存在明顯差距 。芯片西方中國在先進芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達國家存在大約20年的技術(shù)鍵瓶頸技術(shù)差距。該企業(yè)在無法獲得最先進光刻設備的存年差距成關(guān)情況下 ，沉積