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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

2025-09-03 21:25:58作者:

獨善一身網(wǎng)原創(chuàng)

光刻是中國制造半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié),

目前最先進(jìn)的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ,也顯著提高了制造成本 。技術(shù)鍵瓶頸這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的存年差距成關(guān)研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難。因此受到出口管制的光刻影響。其技術(shù)依賴美國核心零部件 ,設(shè)備只能采用相對落后的中國制造技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片,光刻工藝是芯片西方將芯片設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù),光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的技術(shù)鍵瓶頸關(guān)鍵作用,中國在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國家存在大約20年的存年差距成關(guān)技術(shù)差距。

光刻中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備,設(shè)備也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的中國制造能力