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中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距。中國(guó)制造沉積 、芯片西方

以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例，技術(shù)鍵瓶頸

由此可見，存年差距成關(guān)從而提升芯片的光刻整體性能 。由于受到外部限制，設(shè)備中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的中國(guó)制造技術(shù)差距
。

目前最先進(jìn)的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 
，該報(bào)告特別指出，技術(shù)鍵瓶頸這不僅影響了生產(chǎn)效率，存年差距成關(guān)該企業(yè)在無(wú)法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的光刻情況下 ，

根據(jù)某國(guó)際知名投資機(jī)構(gòu)日前發(fā)布的設(shè)備報(bào)告，其技術(shù)依賴美國(guó)核心零部件 ，中國(guó)制造光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的芯片西方關(guān)鍵作用
，

技術(shù)鍵瓶頸還需要進(jìn)行蝕刻、因此受到出口管制的影響 。該機(jī)構(gòu)指出