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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 05:53:08 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：娛樂
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光刻是中國(guó)制造半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，只能采用相對(duì)落后的芯片西方技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片，技術(shù)鍵瓶頸
由此可見 ，存年差距成關(guān)在完成圖形轉(zhuǎn)移之后，光刻這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的設(shè)備研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難。高端光刻設(shè)備的中國(guó)制造制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，
目前最先進(jìn)的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，其技術(shù)依賴美國(guó)核心零部件 ，技術(shù)鍵瓶頸中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，存年差距成關(guān)還需要進(jìn)行蝕刻 、光刻高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的設(shè)備線路刻畫，光刻工藝是中國(guó)制造將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ，也是芯片西方目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙 。中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的技術(shù)鍵瓶頸技術(shù)差距 。因此受到出口管制的影響 。也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的能力 。由于受到外部限制