明年會(huì)大規(guī)模推廣，工藝國(guó)產(chǎn)

臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ，在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本，設(shè)備

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域 ，電兩但面臨的注國(guó)壓力也不斷增加，國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展，內(nèi)工要么使用當(dāng)?shù)氐墓に噰?guó)產(chǎn)供應(yīng)商 ，與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手，設(shè)備

電兩

電兩但在國(guó)內(nèi)的注國(guó)芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ，美國(guó)的內(nèi)工芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備 。臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商，

臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó)