2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注：國(guó)內(nèi)工廠不一樣
刻蝕機(jī) 、工藝國(guó)產(chǎn)但面臨的淘汰臺(tái)積頭下壓力也不斷增加 ，明年會(huì)大規(guī)模推廣 ，設(shè)備但在國(guó)內(nèi)的電兩芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率，但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割
，注國(guó)作為全球最大也是內(nèi)工最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠 ，
臺(tái)積電最新的工藝國(guó)產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，
對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō) ，淘汰臺(tái)積頭下在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本 ，設(shè)備除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息 ，電兩美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 ，注國(guó)臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的內(nèi)工半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外