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我國半導(dǎo)體光刻設(shè)備發(fā)展現(xiàn)狀與國際差距分析

字號+作者:獨善一身網(wǎng)來源:時尚2025-09-04 13:50:34我要評論(0)

近年來,我國在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域持續(xù)發(fā)力,努力縮小與國際先進水平的差距,但整體來看,仍存在較大距離,尤其是在關(guān)鍵設(shè)備領(lǐng)域,仍面臨諸多挑戰(zhàn)。根據(jù)國際知名投行最新發(fā)布的報告,目前我國自主研發(fā)的光刻機主要能支持

因為國內(nèi)尚未掌握該類設(shè)備的國半光刻國際自主制造能力 ,但整體來看