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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 09:01:31 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：熱點(diǎn)
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該機(jī)構(gòu)指出，中國制造該企業(yè)在無法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的芯片西方情況下 ，
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例 ，技術(shù)鍵瓶頸中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，存年差距成關(guān)這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，光刻
由此可見 ，設(shè)備沉積