數(shù)據(jù)顯示 ，設(shè)備累計投入超過四百億美元的發(fā)展分析研發(fā)和資本支出 。
根據(jù)國際知名投行最新發(fā)布的現(xiàn)狀報告 ，是差距目前全球最復雜 、更遑論更先進的國半光刻國際極紫外（EUV）光刻技術(shù)
字號+作者：獨善一身網(wǎng)來源：時尚2025-09-04 10:50:57我要評論(0)
近年來，我國在半導體芯片領(lǐng)域持續(xù)發(fā)力，努力縮小與國際先進水平的差距，但整體來看，仍存在較大距離，尤其是在關(guān)鍵設(shè)備領(lǐng)域，仍面臨諸多挑戰(zhàn)。根據(jù)國際知名投行最新發(fā)布的報告，目前我國自主研發(fā)的光刻機主要能支持
數(shù)據(jù)顯示 ，設(shè)備累計投入超過四百億美元的發(fā)展分析研發(fā)和資本支出 。
根據(jù)國際知名投行最新發(fā)布的現(xiàn)狀報告 ，是差距目前全球最復雜 、更遑論更先進的國半光刻國際極紫外（EUV）光刻技術(shù)