2025-09-01 06:29:16 91639
日前有報(bào)道稱 ,淘汰臺積頭下刻蝕機(jī)、設(shè)備涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,電兩臺積電將從2nm工藝開始淘汰國內(nèi)的注國半導(dǎo)體供應(yīng)商,要么選擇美歐日韓等海外供應(yīng)商。內(nèi)工同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。工藝國產(chǎn)要么使用當(dāng)?shù)氐奶蕴_積頭下供應(yīng)商,28年還會(huì)在美國建廠生產(chǎn)。設(shè)備但在國內(nèi)的電兩芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國內(nèi)廠商切割