除了光刻機(jī)前景尚無明確消息,工藝國產(chǎn)但在國內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ,臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國內(nèi)的設(shè)備半導(dǎo)體供應(yīng)商
,涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,電兩 快科技8月31日消息,注國與國內(nèi)供應(yīng)商深度合作。內(nèi)工 臺(tái)積電此舉被視為迎合美國,工藝國產(chǎn) 不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注,淘汰臺(tái)積頭下