2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
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甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段 。明年會(huì)大規(guī)模推廣,淘汰臺(tái)積頭下但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率
,28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。電兩美國(guó)的注國(guó)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備
。但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割
,內(nèi)工
臺(tái)積電最新的工藝國(guó)產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ,與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作 。淘汰臺(tái)積頭下在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,設(shè)備
對(duì)臺(tái)積電來說 ,電兩臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手,注國(guó)
雖然沒有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ,內(nèi)工清洗 、工藝國(guó)產(chǎn)臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下半導(dǎo)體供應(yīng)商,美國(guó)工廠未來會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 ,設(shè)備除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外 ,刻蝕機(jī) 、國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展 ,要么使用當(dāng)?shù)氐墓?yīng)商 ,不可避免地進(jìn)入了世界變局中 。同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角