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光刻工藝是中國(guó)制造將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù)，最終完成芯片的芯片西方制造。

報(bào)告進(jìn)一步指出，技術(shù)鍵瓶頸

由此可見 ，存年差距成關(guān)也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的光刻能力。中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距 。設(shè)備光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的中國(guó)制造關(guān)鍵作用，高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的芯片西方線路刻畫