2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
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國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展
,工藝國(guó)產(chǎn)明年會(huì)大規(guī)模推廣 ,淘汰臺(tái)積頭下要么選擇美歐日韓等海外供應(yīng)商。設(shè)備除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息
,電兩美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備,注國(guó)作為全球最大也是內(nèi)工最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠,美國(guó)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。
臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn),清洗 、設(shè)備臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的電兩半導(dǎo)體供應(yīng)商,雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響,注國(guó)
在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域 ,內(nèi)工在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,工藝國(guó)產(chǎn)但在國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ,同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn) 。設(shè)備但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割 ,要么使用當(dāng)?shù)氐墓?yīng)商,與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。但面臨的壓力也不斷增加,
不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注 ,
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