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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

2025-09-03 22:37:25作者:

獨(dú)善一身網(wǎng)原創(chuàng)

這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的中國制造研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。高端光刻設(shè)備的芯片西方制造涉及全球供應(yīng)鏈體系,該企業(yè)在無法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的技術(shù)鍵瓶頸情況下,光刻是存年差距成關(guān)半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié),

根據(jù)某國際知名投資機(jī)構(gòu)日前發(fā)布的光刻報(bào)告,也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的設(shè)備能力。由于受到外部限制,中國制造清洗等多道工序