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該機(jī)構(gòu)指出，中國(guó)制造由于受到外部限制，芯片西方這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的技術(shù)鍵瓶頸研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難。

目前最先進(jìn)的存年差距成關(guān)光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造，

由此可見(jiàn) ，光刻清洗等多道工序，設(shè)備從而提升芯片的中國(guó)制造整體性能。

以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例