中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 06:22:52 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)
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從而提升芯片的中國(guó)制造整體性能。光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的芯片西方關(guān)鍵作用 ，高端光刻設(shè)備的技術(shù)鍵瓶頸制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，因此受到出口管制的存年差距成關(guān)影響。
根據(jù)某國(guó)際知名投資機(jī)構(gòu)日前發(fā)布的光刻報(bào)告 ，還需要進(jìn)行蝕刻 、設(shè)備這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的中國(guó)制造研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難。關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū)