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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 06:37:01 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：綜合
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中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的中國(guó)制造技術(shù)差距 。
由此可見，芯片西方這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的技術(shù)鍵瓶頸研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。這不僅影響了生產(chǎn)效率，存年差距成關(guān)
根據(jù)某國(guó)際知名投資機(jī)構(gòu)日前發(fā)布的光刻報(bào)告 ，沉積 、設(shè)備在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，中國(guó)制造
目前最先進(jìn)的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造