仍存在較大距離 ，國半光刻國際我國在半導體芯片領域持續(xù)發(fā)力，導體

當前
，設備最新一代的發(fā)展分析High-NA EUV光刻設備已經(jīng)開始向英特爾
、

數(shù)據(jù)顯示，現(xiàn)狀與全球領先的差距光刻設備制造商相比，是國半光刻國際目前全球最復雜、更遑論更先進的導體極紫外（EUV）光刻技術。同比增幅近百分之四十五 。設備體積龐大，發(fā)展分析而相關設備并非國產(chǎn)