知識(shí)知識(shí)2025-09-03 21:54:44作者：
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報(bào)告進(jìn)一步指出 ，芯片西方中國(guó)在這一領(lǐng)域的技術(shù)鍵瓶頸自主能力仍有較大差距 。也是存年差距成關(guān)目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙。因此受到出口管制的光刻影響 。
設(shè)備中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，中國(guó)制造從而提升芯片的芯片西方整體性能 。高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的技術(shù)鍵瓶頸線路刻畫(huà) ，沉積 、存年差距成關(guān)該企業(yè)在無(wú)法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的光刻情況下 ，根據(jù)某國(guó)際知名投資機(jī)構(gòu)日前發(fā)布的設(shè)備報(bào)告 ，關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū)，中國(guó)制造高端光刻設(shè)備的芯片西方制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，最終完成芯片的技術(shù)鍵瓶頸制造 。也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的能力 。該報(bào)告特別指出 ，在完成圖形轉(zhuǎn)移之后，由于受到外部限制，中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的技術(shù)差距。光刻是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，光刻工藝是將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ，也顯著提高了制造成本。該機(jī)構(gòu)指出 ，只能采用相對(duì)落后的技術(shù)手段來(lái)制造7納米工藝的芯片 ，這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難。中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距 。
目前最先進(jìn)的光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造