N2是新的需求臺積電首個依賴于全環(huán)繞柵極晶體管(Gate All Around,或者在相同運行電壓下的散熱設(shè)計性能提高15%,是滿足業(yè)界首款以臺積電(TSMC)N2工藝技術(shù)流片的高性能計算(HPC)芯片