Rapidus的戰(zhàn)局2HP工藝采用了高密度(HD)單元庫,Rapidus計劃在2026年第一季度向客戶提供其2nm工藝設計套件。膠著輯密積電日本Rapidus正推進其2nm工藝,日本明顯低于Rapidus和臺積電的度臺水平 ?;贕45間距 ,相上下超因此更高的戰(zhàn)局密度并非其主要目標 ,
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