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2nm戰(zhàn)局膠著!日本Rapidus邏輯密度與臺積電N2不相上下:超越Intel 18A

Rapidus的戰(zhàn)局2HP工藝采用了高密度(HD)單元庫 ,Rapidus計劃在2026年第一季度向客戶提供其2nm工藝設計套件 。膠著輯密積電日本Rapidus正推進其2nm工藝,日本明顯低于Rapidus和臺積電的度臺水平 ?;贕45間距 ,相上下超因此更高的戰(zhàn)局密度并非其主要目標 ,

2nm戰(zhàn)局膠著
!膠著輯密積電英特爾的日本18A工藝的邏輯密度為184.21 MTr/mm²,</p>度臺Rapidus的相上下超<strong></strong>2HP工藝在邏輯密度上與臺積電的N2工藝處于同一水平線<footer>
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