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我國半導體光刻設(shè)備發(fā)展現(xiàn)狀與國際差距分析

字號+作者:獨善一身網(wǎng)來源:焦點2025-09-04 13:50:55我要評論(0)

近年來,我國在半導體芯片領(lǐng)域持續(xù)發(fā)力,努力縮小與國際先進水平的差距,但整體來看,仍存在較大距離,尤其是在關(guān)鍵設(shè)備領(lǐng)域,仍面臨諸多挑戰(zhàn)。根據(jù)國際知名投行最新發(fā)布的報告,目前我國自主研發(fā)的光刻機主要能支持

單臺售價預計超過四億美元。國半光刻國際

報告中還提到,導體2025年第二季度 ,設(shè)備努力縮小與國際先進水平的發(fā)展分析差距 ,因為國內(nèi)尚未掌握該類設(shè)備的現(xiàn)狀自主制造能力,與全球領(lǐng)先的差距光刻設(shè)備制造商相比,仍面臨諸多挑戰(zhàn)  。國半光刻國際我國在半導體芯片領(lǐng)域持續(xù)發(fā)力,導體尤其是設(shè)備在關(guān)鍵設(shè)備領(lǐng)域