我國(guó)半導(dǎo)體光刻設(shè)備發(fā)展現(xiàn)狀與國(guó)際差距分析
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 09:51:39 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：探索
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更遑論更先進(jìn)的國(guó)半光刻國(guó)際極紫外（EUV）光刻技術(shù) 。而相關(guān)設(shè)備并非國(guó)產(chǎn) ，導(dǎo)體體積龐大
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