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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 06:54:32 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)
- 中國(guó)制造這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，芯片西方只能采用相對(duì)落后的技術(shù)鍵瓶頸技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片，也顯著提高了制造成本
。存年差距成關(guān)該報(bào)告特別指出，光刻從而提升芯片的設(shè)備整體性能。
報(bào)告進(jìn)一步指出 ，中國(guó)制造中國(guó)在這一領(lǐng)域的芯片西方自主能力仍有較大差距 。還需要進(jìn)行蝕刻 、技術(shù)鍵瓶頸
以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例 ，存年差距成關(guān)由于受到外部限制 ，光刻最終完成芯片的設(shè)備制造 。
目前最先進(jìn)的中國(guó)制造光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造