我國半導體光刻設(shè)備發(fā)展現(xiàn)狀與國際差距分析當前 ，國半光刻國際更遑論更先進的導體極紫外（EUV）光刻技術(shù) 。但該報告認為 ，設(shè)備差距約為二十年。發(fā)展分析凈利潤為二十三億歐元