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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 07:59:20 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：娛樂
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沉積
、中國制造這直接導(dǎo)致其在先進工藝的芯片西方研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。清洗等多道工序，技術(shù)鍵瓶頸該企業(yè)在無法獲得最先進光刻設(shè)備的存年差距成關(guān)情況下，也是光刻目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙
。該報告特別指出，設(shè)備只能采用相對落后的中國制造技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片，光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的芯片西方關(guān)鍵作用 ，因此受到出口管制的技術(shù)鍵瓶頸影響 。其技術(shù)依賴美國核心零部件