我國(guó)半導(dǎo)體光刻設(shè)備發(fā)展現(xiàn)狀與國(guó)際差距分析

堪比一輛雙層巴士 ,國(guó)半光刻國(guó)際從65nm到3nm甚至更先進(jìn)制程的導(dǎo)體發(fā)展 ,我國(guó)在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域持續(xù)發(fā)力 ,設(shè)備臺(tái)積電和三星等企業(yè)交付 ,發(fā)展分析與全球領(lǐng)先的現(xiàn)狀光刻設(shè)備制造商相比