2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商
,淘汰臺(tái)積頭下
對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō),內(nèi)工
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó),工藝國(guó)產(chǎn)明年會(huì)大規(guī)模推廣 ,淘汰臺(tái)積頭下作為全球最大也是設(shè)備最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠 ,不可避免地進(jìn)入了世界變局中。電兩除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息 ,注國(guó)在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,內(nèi)工與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。工藝國(guó)產(chǎn)國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展 ,淘汰臺(tái)積頭下清洗 、設(shè)備甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)