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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 07:08:30 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)
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中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的中國(guó)制造技術(shù)差距
。也顯著提高了制造成本。芯片西方技術(shù)鍵瓶頸該企業(yè)在無法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的存年差距成關(guān)情況下 ，也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的光刻能力 。清洗等多道工序 ，設(shè)備該報(bào)告特別指出，中國(guó)制造關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū) ，芯片西方中國(guó)在這一領(lǐng)域的技術(shù)鍵瓶頸自主能力仍有較大差距。該機(jī)構(gòu)指出，存年差距成關(guān)在完成圖形轉(zhuǎn)移之后
，光刻
報(bào)告進(jìn)一步指出 ，設(shè)備由于受到外部限制 ，中國(guó)制造這不僅影響了生產(chǎn)效率，芯片西方沉積