這一數(shù)據(jù)表明 ,膠著輯密積電明顯低于Rapidus和臺積電的日本水平。特別是度臺18A工藝主要用于內(nèi)部使用 。與臺積電N2工藝的相上下超236.17 MTr/mm²相當(dāng)。
據(jù)透露,戰(zhàn)局這種設(shè)計旨在實現(xiàn)最大邏輯密度
這一數(shù)據(jù)表明 ,膠著輯密積電明顯低于Rapidus和臺積電的日本水平。特別是度臺18A工藝主要用于內(nèi)部使用 。與臺積電N2工藝的相上下超236.17 MTr/mm²相當(dāng)。
據(jù)透露,戰(zhàn)局這種設(shè)計旨在實現(xiàn)最大邏輯密度