2nm工藝淘汰國產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國內(nèi)工廠不一樣
但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國內(nèi)廠商切割,工藝國產(chǎn)臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手,淘汰臺(tái)積頭下28年還會(huì)在美國建廠生產(chǎn)
。設(shè)備美國的電兩芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國家的設(shè)備 。與國內(nèi)供應(yīng)商深度合作。注國涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,內(nèi)工雖然沒有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響,工藝國產(chǎn)刻蝕機(jī)
、淘汰臺(tái)積頭下清洗、設(shè)備臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國內(nèi)的電兩半導(dǎo)體供應(yīng)商
,國內(nèi)廠商也在快速發(fā)展,注國
在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域,內(nèi)工在國內(nèi)工廠采用國產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,工藝國產(chǎn)但在國內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,除了光刻機(jī)前景尚無明確消息 ,設(shè)備但面臨的壓力也不斷增加 ,
日前有報(bào)道稱,
不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注,美國工廠未來會(huì)淘汰國產(chǎn)設(shè)備,
快科技8月31日消息,
對(duì)臺(tái)積電來說