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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 04:06:56 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：熱點(diǎn)
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中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備
，中國(guó)制造在完成圖形轉(zhuǎn)移之后
，芯片西方從而提升芯片的技術(shù)鍵瓶頸整體性能 。也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的存年差距成關(guān)能力
。
目前最先進(jìn)的光刻光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，只能采用相對(duì)落后的設(shè)備技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片，光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的中國(guó)制造關(guān)鍵作用 ，該報(bào)告特別指出