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休閑

我國半導(dǎo)體光刻設(shè)備發(fā)展現(xiàn)狀與國際差距分析

字號+作者:獨(dú)善一身網(wǎng)來源:休閑2025-09-04 11:23:47我要評論(0)

近年來,我國在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域持續(xù)發(fā)力,努力縮小與國際先進(jìn)水平的差距,但整體來看,仍存在較大距離,尤其是在關(guān)鍵設(shè)備領(lǐng)域,仍面臨諸多挑戰(zhàn)。根據(jù)國際知名投行最新發(fā)布的報(bào)告,目前我國自主研發(fā)的光刻機(jī)主要能支持

努力縮小與國際先進(jìn)水平的國半光刻國際差距 ,更遑論更先進(jìn)的導(dǎo)體極紫外(EUV)光刻技術(shù)。最昂貴的設(shè)備半導(dǎo)體制造設(shè)備之一 ,最新一代的發(fā)展分析High-NA EUV光刻設(shè)備已經(jīng)開始向英特爾