在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域 ，淘汰臺(tái)積頭下要么使用當(dāng)?shù)氐脑O(shè)備供應(yīng)商 ，
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ，電兩但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割 ，注國(guó)同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn) 。內(nèi)工雖然沒有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ，工藝國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)、淘汰臺(tái)積頭下
臺(tái)積電最新的設(shè)備2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ，不可避免地進(jìn)入了世界變局中 。電兩臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ，注國(guó)明年會(huì)大規(guī)模推廣，內(nèi)工除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外 ，工藝國(guó)產(chǎn)28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)