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中國芯片制造技術與西方存20年差距，光刻設備成關鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 09:03:24 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：綜合
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只能采用相對落后的中國制造技術手段來制造7納米工藝的芯片
，也是芯片西方目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙
。光刻工藝是技術鍵瓶頸將芯片設計圖形轉移到硅片上的核心技術
發(fā)布時間：2025-09-04 09:03:24 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：綜合