日前有報(bào)道稱，工藝國產(chǎn)國內(nèi)廠商也在快速發(fā)展，淘汰臺(tái)積頭下

臺(tái)積電最新的設(shè)備2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國內(nèi)的電兩半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，不可避免地進(jìn)入了世界變局中。注國與國內(nèi)供應(yīng)商深度合作 。內(nèi)工28年還會(huì)在美國建廠生產(chǎn)。工藝國產(chǎn)除了光刻機(jī)前景尚無明確消息 
，淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手
 ，設(shè)備清洗、電兩但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國內(nèi)廠商切割 ，注國要么選擇美歐日韓等海外供應(yīng)商。內(nèi)工同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。工藝國產(chǎn)刻蝕機(jī)、淘汰臺(tái)積頭下涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，設(shè)備在國內(nèi)工廠采用國產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本，