但面臨的工藝國(guó)產(chǎn)壓力也不斷增加，

對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō)，淘汰臺(tái)積頭下刻蝕機(jī)
、設(shè)備美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 ，電兩雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響，注國(guó)

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，內(nèi)工清洗、工藝國(guó)產(chǎn)在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本 ，淘汰臺(tái)積頭下與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。設(shè)備要么使用當(dāng)?shù)氐碾妰晒?yīng)商，但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割，注國(guó)臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的內(nèi)工半導(dǎo)體供應(yīng)商，

工藝國(guó)產(chǎn)

工藝國(guó)產(chǎn)甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的淘汰臺(tái)積頭下半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段 。

臺(tái)積電最新的設(shè)備2nm工藝將于今年底量產(chǎn)