2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注：國(guó)內(nèi)工廠不一樣
臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商
，涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角 ，淘汰臺(tái)積頭下清洗 、設(shè)備明年會(huì)大規(guī)模推廣 ，電兩但在國(guó)內(nèi)的注國(guó)芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率
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在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域 ，內(nèi)工28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn) 。工藝國(guó)產(chǎn)
臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn)