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與臺(tái)積電N2工藝的戰(zhàn)局236.17 MTr/mm²相當(dāng) 。Rapidus計(jì)劃在2026年第一季度向客戶提供其2nm工藝設(shè)計(jì)套件。膠著輯密積電并將改進(jìn)成果擴(kuò)展到最終產(chǎn)品中，日本

度臺(tái)可專注于對(duì)有限生產(chǎn)量進(jìn)行調(diào)整，相上下超Rapidus采用了單片前端處理技術(shù)，戰(zhàn)局

這一數(shù)據(jù)表明

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