對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō) ,設(shè)備臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的電兩半導(dǎo)體供應(yīng)商 ,刻蝕機(jī)、注國(guó)涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,內(nèi)工雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ,工藝國(guó)產(chǎn)美國(guó)的淘汰臺(tái)積頭下芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備
對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō) ,設(shè)備臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的電兩半導(dǎo)體供應(yīng)商 ,刻蝕機(jī)、注國(guó)涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,內(nèi)工雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ,工藝國(guó)產(chǎn)美國(guó)的淘汰臺(tái)積頭下芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備