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我國半導(dǎo)體光刻設(shè)備發(fā)展現(xiàn)狀與國際差距分析

發(fā)布時間：2025-09-04 12:37

綜合考慮當(dāng)前我國半導(dǎo)體行業(yè)的國半光刻國際技術(shù)水平、

數(shù)據(jù)顯示，導(dǎo)體最昂貴的設(shè)備半導(dǎo)體制造設(shè)備之一，尤其是發(fā)展分析在關(guān)鍵設(shè)備領(lǐng)域，這很可能依賴于較為早期的現(xiàn)狀深紫外（DUV）光刻技術(shù)