臺(tái)積電最新的內(nèi)工2nm工藝將于今年底量產(chǎn),但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割,工藝國(guó)產(chǎn)28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。淘汰臺(tái)積頭下雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ,設(shè)備涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角
臺(tái)積電最新的內(nèi)工2nm工藝將于今年底量產(chǎn),但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割,工藝國(guó)產(chǎn)28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。淘汰臺(tái)積頭下雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ,設(shè)備涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角