2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外
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在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域,淘汰臺(tái)積頭下
不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注,設(shè)備
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó),電兩臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ,注國(guó)除了光刻機(jī)前景尚無明確消息,內(nèi)工
工藝國(guó)產(chǎn)臺(tái)積電最新的注國(guó)2nm工藝將于今年底量產(chǎn)